关于Gener系列

Gener-1300

本装置是为减反射光学薄膜的大批量生产而设计制作的光学镀膜机。

特征
采用了磁流体密封pp电子官网 的中心旋转式基板架,保证了薄膜产品的重复性与均匀性
优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短
可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)
规格
真空室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)
基板架 4片式工作架(或Ф1200 mm)
基板架转速 最大30rpm(可调)
晶振式膜厚计 XTC/3+6点式水晶传感器
蒸发源 电子枪1台
性能
极限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
抽气速度 10分(大气压~3.0×10-3Pa)
基板最高加热温度 最高350℃
工作条件
安装空间 约4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
电力 3相,200V,50/60Hz,约80KVA
水流量 100升/分以上
压缩空气压力 0.5-0.7MPa
重量 约5000kg